企业网上年检在网站怎么做,爱客crm登录,自己可以做门户网站吗,网站导航设计上次#xff0c;介绍了《首台#xff08;套#xff09;重大技术装备推广应用指导目录#xff08;2024年版#xff09;》中介绍的硅外延炉#xff0c;湿法清洗机#xff0c;氧化炉#xff0c;见文章#xff1a;
《聊聊国内首台重大技术装备#xff08;1#xff09;》…
上次介绍了《首台套重大技术装备推广应用指导目录2024年版》中介绍的硅外延炉湿法清洗机氧化炉见文章
《聊聊国内首台重大技术装备1》
这次来解读一下目录中提到的匀胶显影机光刻机及离子注入机。 匀胶显影机光刻机离子注入机解读
匀胶显影机也可以叫做track一般匀胶显影是集成在一起而不是分开的。因此track机台的主要功能包括光刻胶旋涂烘烤显影清洗等功能。光刻胶旋涂是将光刻胶以高速旋转的方式均匀地涂布在晶圆表面烘烤则是为了以去除光刻胶中的溶剂稳定光刻胶层提高其附着力显影是为了去除正胶的曝光区域或负胶的未曝光区域。 国产的光刻机中有KrF光刻机与ArF光刻机。从目录上看KrF光刻机分辨率小于110nmArF光刻机小于65nm。这应该是上海微电子的产品至于ArF光刻机应当是非浸没式的。这两款光刻机相对于主流机台还落后不少做IC芯片无法胜任不过是可以应用于MEMSLED,先进封装领域。
量产光刻机可用的波长分别为G线436nmi线365nmKrF248nmArF193nmEUV13nm。G线和 i线属于紫外线UV可以由汞灯LED灯产生KrFArF属于深紫外线DUV分别由氟化氪准分子激光器氟化氩准分子激光器产生EUV是极紫外光可以由激光等离子体产生。 离子注入机的种类繁多如果按能量来分有低能100KeV、中能(100300KeV、高能(3001000KeV和兆伏离子注入机≥1000KeV按束流分有小束流中束流12mA和大束流。 在目录中看到了离子注入机的种类有高能离子注入机低能离子注入机。高能离子注入机适用于深层掺杂低能离子注入机适用于浅层掺杂或表面改性。由于集成电路制程已经缩小至几纳米源漏极的结深相应减小为了实现浅层掺杂低能大束流日渐成为主流其技术难度也最高。 国内外厂家有哪些
匀胶显影机
国外VEECO,TEL,DNS,ASAP,EVG,SUSS等
国内至纯芯源微沈阳科仪等
光刻机
国外ASML,NikonCanonVEECOEVG,SUSS等
国内上海微电子等
离子注入机
国外AMAT,AXCELIS,ULVAC
国内:汉辰台湾凯士通烁科中科信等
